第407章 有資格犯更高級的錯了（1 / 3）

更大的「鬼影」，出現在工藝貫通之後。

當第一片經過光刻、刻蝕、擴散、鍍鋁的硅片被送到簡易探針台下進行電學測試時，所有人都屏住了呼吸。

電壓加上去，電流波形卻雜亂無章，該導通的地方電阻巨大，該絕緣的地方卻又微微漏電。

失敗了。

沒有意外，只有沉重。

大家默默地看着那片承載了無數希望的硅片，它表面閃爍着金屬光澤的圖形，此刻彷彿成了一種嘲諷。

宋顏教授主持了第一次失效分析會。

沒有責難，只有冷靜的追問。

「圖形轉移完整嗎？顯微鏡檢查。」

「檢查了，線條清晰，邊緣陡直，未見明顯鑽蝕或殘留。」

「摻雜濃度呢？四探針測薄層電阻。」

「數據在這裏，符合設計範圍，但……均勻性似乎有點波動，邊緣偏高。」

「鋁硅接觸呢？合金化溫度和時間是否嚴格執行？」

「嚴格執行了，但……接觸電阻測試數據離散性很大。」

問題像一團迷霧，籠罩在各個環節。

似乎每個步驟都勉強及格，但疊加起來，就是不及格。

「我們需要『看見』問題。」宋顏說，「看不見界面，看不見缺陷，我們就是瞎子。」

真正的轉機，來自一次「違規操作」。

上海感光廠提供的試驗性光刻膠，有一批被發現在特定顯影條件下，會在圖形邊緣留下極細微的、顯微鏡下都難以察覺的「須狀」殘留。

負責塗膠顯影區域的技術員柳青，是個心細如髮的人。

他沒有簡單地報廢這批膠，而是嘗試調整了顯影液的濃度、溫度和搖晃方式。

在一次近乎直覺的嘗試中，他用了更稀的顯影液，並延長了顯影時間，同時非常緩慢地晃動硅片。

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