第1182章：一個新的時代，即將來臨（1 / 2）

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「陳總，這台就是我們研發出來的浸潤式光刻機。這一台光刻機打破了傳統的乾式光刻理論，採用濕式以水為媒介，從而讓製程大幅度的進行了提升。雖然我們目前的製程水平是在100納米左右，但我們隨時可以進入到65納米行例。」

「也就是說，一但我們的浸潤式光刻機上馬，我們的技術水平將可以和asml比肩。同時，我們也能生產出目前最為頂尖的芯片。」

中心國際一處秘密研究基地，林本堅興奮的向陳宇做着介紹。/

「好，很好。」

看着眼前這一台光刻機，陳宇同樣的有些激動。

前世，國人不知道為這樣的一台光刻機奮鬥了多久。

當然。

這倒不是說前世國人做不出光刻機。

其實光刻機技術國人是掌握的，但要做出達到全球頂尖製程的光刻機，那就不是那麼容易的事了。

截止到2021年，前世國內最為頂尖的光刻機製程僅僅只達到90納米。

但asml已經達到5納米，3納米，甚至往2納米方向進軍。

這是幾十倍的差距。

同樣也是幾代水平的差距。

真按這樣的差距進行追趕，恐怕得100年。

幸好。

早在之前陳宇就從台積電挖腳了林本堅。

在他的濕式光刻理論的幫助之下，全球第一台浸潤式光刻機就此誕生。

「陳總，這台光刻機還不是我們最為先進的，在濕式光刻理論的支持之下，我們的製程在未來還可以大幅度的進行提高。目前全球最高製程水平是65納米，這已經很難再進步了。但我們卻才剛剛開始，未來我們將進入45納米，28納米，20納米，10納米，甚至是7納米之例……」

說到技術，林本堅卻是滔滔不絕。

對於他來說，能將自己的理論得已實現，這是最為激動人心的事。

而且他知道，一但他們的光刻機上馬，他將改變全球芯片的進程，甚至改變全球半導體行業的格局。

「林總工，辛苦了。」

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